國立清華大學「微感測器與致動器產學聯盟」(http://www.usat.org.tw/) 活動邀請

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本次活動邀請在原子層沈積(ALD)技術具有超過二十年經驗的黎微明博士演講“40 Years of ALD – From Idea to Enabling Technology for Atomic Scale Fabrications”，希望藉由黎博士過去二十年間深厚的技術與產業經驗帶給台灣微機電產業在ALD Coating上一些啟示與未來發展的契機。微機電元件因其具備薄膜結構或可動件之故，常遭遇Stiction與Outgassing的問題，以致於影響微機電產品的可靠度，不論是MEMS IDM或Foundry均迫切需要實際工程技術來解決這些問題。透過ALD製程提供的高品質與高均勻性薄膜，早期被大量使用於微電子元件中作為高介電常數薄膜使用。如今微機電產業興起，我們應探索ALD薄膜在MEMS是否可以扮演一個全新的解決方案，藉由具備原子解析度的單一或多膜層沈積於微機電結構上，預期可有效預防微機電元件之短路、電荷累積、濕氣導致之沾黏、磨耗、侵蝕、潛變、疲勞或氧化等問題，將可大幅增加元件可靠度與產品使用壽命。目前微機電領域已針對ALD在MEMS元件之抗沾黏與抗環境影響之保護作用進行多年研究。μSAT聯盟透過聯盟成員的協助將於清大奈材中心建置ALD製程系統，我們非常歡迎聯盟之上中下游成員一起腦力激盪，透過聯盟資源共同拓展ALD在台灣MEMS產業的潛在應用。

 
講員簡介

 
黎微明博士於ALD薄膜材料、薄膜製程與設備開發具有非常深厚的技術經驗，這些經驗已應用於微電子元件、CMOS Image Sensor、平面顯示器與太陽能產業。黎博士畢業於University of Helsinki，自1994開始從事ALD的研究工作。2000年加入ASM Microchemistry Ltd.，開發ALD金屬及高介電常數薄膜之工藝，經歷了ALD技術走向微電子製造工業化的歷史過程。2006年黎博士加入Silecs Oy開發Siloxane Polymers，亦從事製程、應用、銷售、市場與製程平台之開發及管理角色，具備薄膜產業上中下游之完整歷練。目前黎博士擔任Picosun Asia Pte. Ltd.之CEO與Picosun Oy之Application Director。黎博士對台灣微機電產業深感興趣，在這場活動中會以其在ALD 技術過來人的身分，和與會來賓共同探索ALD在台灣微機電產業的機會與挑戰。

 

時間: 3/24 (二) 下午14:00–16:30

地點: 國立清華大學工程一館 108室

費用: 一律免費